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MKS ASTRON2L RPS 半導(dǎo)體遠(yuǎn)程等離子源是在半導(dǎo)體產(chǎn)線沉積和蝕刻室清潔工藝中的發(fā)揮關(guān)鍵作用的子組件，可以消除工藝副產(chǎn)物從室壁積聚，增加工藝工具的壽命...

MKS 遠(yuǎn)程等離子體源 ASTRON hf-s 15L RPS 是沉積和蝕刻室清潔工藝的關(guān)鍵子組件，消除了工藝副產(chǎn)物從室壁積聚，增加工藝工具的壽命，并減少薄膜污...

AE Rapid OE RPS 遠(yuǎn)程等離子體源是適用于氧氣類過程的遠(yuǎn)程等離子體源，內(nèi)部采用可拆卸石英內(nèi)襯，可減少復(fù)合效應(yīng)，延長氧自由基的壽命。

MKS 遠(yuǎn)程等離子體源 Paragon F* 8SLM RPS 是用于清潔應(yīng)用的智能遠(yuǎn)程等離子體源，為了清潔CVD和ALD/ALE腔室，Paragon遠(yuǎn)程等離子...

MKS 遠(yuǎn)程等離子體源 Paragon 8SML RPS是用于清潔應(yīng)用的智能遠(yuǎn)程等離子體源，為了清潔CVD和ALD/ALE腔室，Paragon遠(yuǎn)程等離子體源有高...

AE XSTREAM 遠(yuǎn)程等離子體源 RPS 是采用集成主動匹配網(wǎng)絡(luò)用于大流量高壓反應(yīng)性氣體工藝的全集成等離子體源平臺。

MKS 遠(yuǎn)程等離子體源 ASTRON HF 15L RPS 是沉積和蝕刻室清潔工藝的關(guān)鍵子組件，消除了工藝副產(chǎn)物從室壁積聚，增加工藝工具的壽命，并減少薄膜污染的...

MKS Revolution RPS AX7690 遠(yuǎn)程等離子源是一款能為半導(dǎo)體芯片加工提供所需的高性能和清潔的活性氣體源的集成式遠(yuǎn)程等離子體源。